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第341章 设备列表（第1页）

地下室里的激情与决心并未随着时间流逝而冷却，反而如同被投入炉火的干柴，在短暂的沉寂后，燃烧得愈发炽烈，散发出一种近乎偏执的光热。

明朗勾勒出的那幅简化版工艺蓝图，虽然清晰诱人，像一盏指路的明灯，但灯光之外的黑暗区域，却让在场的每一位都清晰地意识到，从纸面方案到现实产品之间，横亘着一条名为“设备与量产”的、深不见底的巨大鸿沟。

这鸿沟需要真金白银、需要稀缺资源、需要近乎疯狂的执行力才能填平。

工艺路线一旦确定，所有抽象的技术难题瞬间具象化，焦点变得无比清晰且令人窒息：设备，设备，还是设备！

尤其是阵列工艺中最为核心、技术壁垒最高的——那五次光刻所必需的光刻机（StepperScanner）。

它就像一位傲慢的君王，主宰着整个制造流程的生死。

空气中弥漫着泡面与松香混合的味道，但更浓的是凝重的思考气息。

明朗、欧阳谦、欧阳旭三人挤在那台嗡嗡作响的老旧电脑前，屏幕荧光映照着他们严肃的脸庞，开始一项项罗列那足以让任何初创团队头皮发麻的“死亡清单”。

“光刻机是心脏，也是最难啃的骨头，没有之一。”

欧阳谦推了推鼻梁上滑落的眼镜，面色凝重得仿佛能滴出水来：“全新的？那是天方夜谭。目前主流用于面板制造的ArF（氩氟）准分子激光光刻机，一台就要价数千万美元，而且是对我们禁运的战略物资。我们唯一的选择，只能是去全球的二手设备市场‘淘金’。”

他顿了顿，努力让语气保持冷静：“目标是那些被日韩或中国台湾一代、二代面板厂淘汰下来的、适用于较小尺寸和更宽松制程的接触式光刻机（contactAligner）或者接近式光刻机（proximityAligner）。我们对分辨率要求可以放低，能稳定搞定3-5微米（μm）的线宽，就足够满足我们qVGA分辨率的需求了。但是……”

他加重了语气，每一个字都像锤子敲在心上：“这种老机器就像年迈的赛马，状态极不稳定，故障率高，维护保养是个无底洞。而且，与之配套的铬版掩膜（mask）制作成本高昂、周期长，每一次损耗都肉疼，套刻精度（overlayAccuracy）的控制更是噩梦级的挑战。”

“何止是光刻机！”欧阳旭接过话头，他的急躁此刻化作了语速极快的忧虑，手指在屏幕上那份不断变长的清单上快速点着，仿佛要点燃那些冰冷的设备名称：“薄膜沉积设备是另一座大山！阵列工艺需要：磁控溅射台（Sputter）——至少需要两台，一台用于镀钼铝钼（mo-Al-mo）栅极和源漏金属层，另一台专用于镀氧化铟锡（Ito）透明电极。还有pEcVd（等离子体增强化学气相沉积）设备——用于沉积关键的氮化硅（SiNx）栅极绝缘层和非晶硅（a-Si）有源层。这些设备也必须找二手货，而且为了提升效率和减少污染，最好能找到多腔体的集群设备（clustertool），但这又意味着价格的指数级上升！”

他几乎喘不过气，继续道：“刻蚀设备（Etcher）！湿法刻蚀槽（wetEtchbath）相对简单，用于图形化金属层，但干法刻蚀机（dryEtcher），我们至少需要一台反应离子刻蚀（RIE），用于精确刻蚀a-Si岛和氮化硅层，这玩意儿的工艺气体（cF4，o2，SF6等）配比、射频功率、真空度控制，每一个参数都能让我们掉光头发！这还不是最头疼的，清洗设备（cleaner）！”

他几乎喊了出来：“超声波清洗机、兆声波清洗机（megasoniccleaner），每一步光刻前后、每一次沉积之前，都需要近乎变态的彻底清洗，否则一颗零点几微米的灰尘落在基板上，未来就是一个致命的亮点或暗点（brightdeadpixel），直接宣告屏幕报废！”

欧阳谦深吸一口气，努力将话题拉回系统性的叙述：“还有涂胶显影设备（coaterdeveloper）：旋转涂胶机（Spincoater）用来均匀涂布光刻胶，其转速和加速度控制直接影响胶厚均匀性；显影机要保证显影液浓度、温度和喷洒的均匀性，精度要求极高。最后，没有眼睛的制造就是盲人摸象，检测设备（metrology）绝不能省：高倍率光学显微镜、哪怕一台老旧的扫描电子显微镜（SEm）也是必须的，用来检查线宽（cd）、套刻精度、剖面形貌和缺陷。还得有台阶仪或椭偏仪测膜厚，有探针台（probeStation）配合参数分析仪测试tFt的电学特性（开关比、迁移率、阈值电压）……否则我们根本就是在闭着眼瞎搞，连失败的原因都找不到！”

“我的天爷啊！这还仅仅是他妈的阵列（Array）部分！”欧阳旭猛地向后一靠，用力挠着自己的头发，仿佛想把这一切烦恼都揪出去：“后面还有呢！成盒（cell）工艺需要的UV固化机用于固化封框胶、精度要求极高的真空对位贴合机（VacuumAlignment&Laminatingmachine）用来把tFt阵列基板和彩膜（cF）基板像夹心饼干一样精准对位压合！模组（module）工艺需要的AcF绑定机（AcFbondingmachine）用来把驱动Ic芯片以微米级精度压接到玻璃基板的引脚上、热压机（hotpress）使导电粒子破裂形成连接、精雕机（dicer）或激光切割机把大张玻璃切割成小片、研磨倒角机（Grinderbeveler）处理切割后锋利的玻璃边缘……这简直他妈的不是创业，是要在2005年的中国，凭空重建一个微电子工业的雏形！一个简化版的‘面板富士康’！”

清单越列越长，密密麻麻的文字和数字像一座座无形的大山，压得三人几乎喘不过气。

实验室里原本燃烧的激情，仿佛被这冰冷的现实清单浇上了一盆冰水，只剩下滋滋作响的绝望白汽。

这其中的每一台设备，都不仅仅意味着一个名称，其背后是巨量的资金投入、复杂曲折的全球寻源和采购过程、令人头疼的海关通关、以及更令人望而生畏的安装、调试、工艺验证和无休止的维护。

每一关都足以让缺乏资源和经验的团队折戟沉沙。

然而，在整个过程中，明朗的眼神却始终如磐石般坚定。

他静静地听着，大脑飞速运转，将兄弟二人的忧虑与自己所知的未来信息相互印证、整合。

他早已料到了这份艰难，并且，在他穿越者的视野里，已经勾勒出了一个绝佳的、跳出常规思维的解决方案。

“设备的问题，一件一件解决。清单列出来，就好办了一半。我们可以分优先级，最先保障核心的光刻、沉积、刻蚀设备。钱，我来想办法。”明朗的声音沉稳有力，像定海神针般瞬间打破了地下室里略显压抑和绝望的气氛：“至于场地……这个最大的难题，我已经想好了。”

他站起身，走到那扇唯一的、布满灰尘的小窗前，目光仿佛穿透了校园厚重的围墙和喧嚣的城市，投向了记忆中的远方——江州国际联合化工厂那片熟悉的广袤厂区。

“江州国际联合化工，”他转过身，语气带着一种不容置疑的确定性：“三号仓库区，那边有现成的、至少两千平米挑高超过八米的大型空置仓库。地面是加固的混凝土，承重完全没有问题。面积对于我们这条试验兼中小尺寸量产线，绰绰有余。”

他顿了顿，抛出了最关键的优势：“最重要的是，化工厂本身就有极其稳定的双回路工业供电系统，足以应对精密设备对电压波动的苛刻要求；它自身还拥有成熟的工业级超纯水（Upw）制备系统，水质远超我们电子级清洗的要求，只需要进行末端再精处理即可！这对于我们来说，简直是得天独厚、省下天文数字基础投资的宝藏！我们只需要进行内部隔断和高级别的装修，搭建起class（万级）甚至关键区域达到class1000（千级）的无尘车间（cleanRoom），配套FFU（风机过滤单元）和温湿度控制系统，就能满足要求。而且，就在化工厂区内，氮气、氧气、氩气等大宗气体以及特种化学品的采购、储存、安全管理和废液处理，都可以依托化工厂现成的体系和资质，比我们单独去申请要方便、快速、安全得多！”

欧阳兄弟张大了嘴巴，再次被明朗这天马行空却又无比精准、切中要害的想法震惊得说不出话来。

利用大型化工厂的仓库和现成基础设施？

这简直是神来之笔！

堪称绝妙的战略迂回！

这不仅瞬间解决了令人绝望的场地和基础配套问题，更是在资源利用上做到了极致，将他们的创业成本压缩到了一个难以置信的程度。

希望的火焰，再次在他们眼中猛烈地燃烧起来，而且比之前更加炽热、更加坚定。

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